日立ハイテクサイエンス SPS3520UV-DD
装置概要
元素分析を行う装置です。Arガスに高周波磁場を印加すると5000～8000 Kの高温Arプラズマ(ICP、誘導結合プラズマ)が生じます。これに試料溶液を噴霧すると、試料が原子あるいはイオンに解離し、さらに励起状態となります。これら励起種が緩和時に生じる光を分光し、その強度を測定することで、元素分析を行います。
設置場所
新館 304号室
ICP発光分光分析装置(ICP-OES)
日立ハイテクサイエンス SPS3520UV-DD
元素分析を行う装置です。Arガスに高周波磁場を印加すると5000～8000 Kの高温Arプラズマ(ICP、誘導結合プラズマ)が生じます。これに試料溶液を噴霧すると、試料が原子あるいはイオンに解離し、さらに励起状態となります。これら励起種が緩和時に生じる光を分光し、その強度を測定することで、元素分析を行います。
新館 304号室