装置概要
オスミウムコーターは、四酸化オスミウム結晶の昇華ガスをガス反応容器内に導入し、直流グロー放電を発生させることで試料表面にオスミウムの非晶質膜をつくります。
スパッタリング法でAu、Pt、Pt-Pdを成膜するイオンスパッタ装置では、非常に高倍率で観察するとスパッタした粒子が見えてしまい、試料表面の正確な状態が観察できない場合があります。
オスミウム膜はスパッタリング法を用いた膜に比べて、導電性がよく、熱によるダメージやコンタミが少ないです。また、非晶質な膜のため試料表面の状態が正確に観察できます。他にも、1 nm単位で膜厚を制御できるため、EBSDの前処理や加工や測定を行う際の保護膜としても有効です。
主な仕様
| メーカー | フィルジェン |
|---|---|
| 機種名 | OPC60N |
設置年度
2004年度
設置場所
旧館 B202号室
利用について
学外利用
本装置は他大学・公的研究機関による利用が可能です。