平素より機器分析センターをご利用いただきましてありがとうございます。
4月より新しいX線光電子分光装置(XPS)を公開しましたのでご案内いたします。
機種名：PHI GENESIS
メーカー：ULVAC PHI
・基本仕様
単色化X線源(Al)、分析径100um(可変5um～)、点・線・面分析(マッピング)、
デプスプロファイル測定、帯電中和、試料ホルダー最大80mm×80mm
・オプション
走査型オージェ電子分光分析(SAM)、Arモノマー/ガスクラスターイオンエッチング、
紫外光電子分光分析(UPS)、低エネルギー逆光電子分光分析(LEIPS)、反射電子エネル
ギー損失分光分析(REELS)、角度分解測定、試料加熱最大800℃
粉末試料については、当面依頼分析としてのみ測定可能とします。
全体講習会を5～6月に計画していますが、個別での講習も随時対応します。
なお、料金は未定です。1日2,000～4,000円程度を予定しています。
