イオンスパッタ装置

装置概要

 ターゲット金属(Au、Pt、Pt-Pd)をスパッタリングし、試料表面をコートする装置です。SEMなどで試料表面を観察する際、一般的には試料に導電性がないと帯電してしまい、うまく観察ができません。イオンスパッタ装置によって試料表面を薄い金属膜でコートし、導電性をもたせることで観察ができるようになります。
 ちなみに本センターにあるSEMは低真空観察が可能であり、その場合は試料に導電性がなくても観察が可能です。しかし高倍率の観察ではコートした方が観察しやすくなります。

主な仕様
メーカー日立ハイテクノロジーズ
型番E-1030
放電方式ダイオード放電マグネトロン形 (電場・磁場直行型)
ターゲットAu、Pt、Pt-Pd
試料サイズ最大直径:55 mm、最大高さ:20 mm
設置年度

2004年度

設置場所

旧館 B202

利用について

学外利用

本装置は他大学・公的研究機関による利用が可能です。